制備溫度對TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究

利用電子束熱蒸發(fā)鍍膜的方式,以高純度的ZnO和TiO2顆粒為原料,以Si為基底在有氧的氣氛中制備ZnO/TiO2復合薄膜.研究制備溫度對ZnO/TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)以及發(fā)光性能的影響.通過拉曼(Raman)譜和X射線衍射(XRD)譜分析了ZnO/TiO2薄膜的結(jié)構(gòu),表明所制備的ZnO薄膜為非晶態(tài).用光致發(fā)光 (PL) 譜表征了它的發(fā)光特性,數(shù)據(jù)表明在250 ℃時制備的非晶態(tài)ZnO薄膜在波長389 nm處具有極強的紫外光發(fā)射,在波長431 nm處發(fā)出很強的紫光,在波長519 nm處發(fā)出較強的黃綠光.

作 者： 沈華 史林興 王青 何勇 朱日宏 SHEN Hua SHI Lin-xing WANG Qing HE Yong ZHU Ri-hong   作者單位： 沈華,王青,何勇,朱日宏,SHEN Hua,WANG Qing,HE Yong,ZHU Ri-hong(南京理工大學,電子工程與光電技術(shù)學院,江蘇,南京,210094)

史林興,SHI Lin-xing(南京理工大學,理學院,江蘇,南京,210094) 

刊 名： 應用光學  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF APPLIED OPTICS  年，卷(期)： 2007 28(4)  分類號： O462.3 O484.4-34  關(guān)鍵詞： ZnO   TiO2   電子束熱蒸發(fā)   紫外光發(fā)射   非晶態(tài)薄膜  

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